| 모델명 | VisAA |
| 제조사 | APS System |
| 용도 | 3파장 (RGB) Laser 를 이용한 박막 열처리 및 activation |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 100,000 |
| POSTECH(내부) | 90,000 |
| CSTC 참여연구실 | 70,000 |
| 장비기증 연구실 | 10,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준,
상품 요약설명
| 모델명 | WT-2000 |
| 제조사 | 싸이엔텍 |
| 용도 | Thermal Evaporation 을 이용한 고분자 박막 증착 |
| 증착 막질 | DNTT |
| 이용수가(원) / 100nm 기준 | |
| 기본(외부) | 50,000 |
| POSTECH(내부) | 45,000 |
| CSTC 참여연구실 | 35,000 |
| 장비기증 연구실 | 5,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100nm 기준, 재료비 별도
상품 요약설명
| 모델명 | Lucida D-200 |
| 제조자 | NCD |
| 용도 | 고압 열처리 (Dielectric 결함 제거 및 특성 향상) |
| 제공 Gas | H2, D2 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 / 기본PR | |
| 기본(외부) | 30,000 |
| POSTECH(내부) | 27,000 |
| CSTC 참여연구실 | 21,000 |
| 장비기증 연구실 | 3,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준,
상품 요약설명
| 모델명 | 19LATOO4 |
| 제조사 | SNTEK |
| 용도 | 플라즈마 방식의 기판 표면처리 |
| 제공 Gas | N2, O2, Ar, H2, CF4 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 50,000 |
| POSTECH(내부) | 45,000 |
| CSTC 참여연구실 | 35,000 |
| 장비기증 연구실 | 5,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준,
상품 요약설명
| 모델명 | 20KVS037 |
| 제조자 | Korea Vacuum Tech |
| 용도 | 금속 박막 증착 |
| 기본 depo. 막질 | Ti, Al, Pt, Cr, Pd, Ni 등 금속 증착 가능 |
| 이용수가(원) /100nm 기준 / 기본PR | |
| 기본(외부) | 100,000 |
| POSTECH(내부) | 90,000 |
| CSTC 참여연구실 | 70,000 |
| 장비기증 연구실 | 10,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100nm기준, 막질별 기본 recipe 제공, 재료비 별도 (100nm 기준)
상품 요약설명
| 모델명 | Lucida D200 HT |
| 제조사 | NCD |
| 용도 | 강자성체 및 금속 원자층 증착 |
| Deposition 막질 | FeO, CoO, MgO, Ta, W |
| 이용수가(원) / 100cycle 기준/기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 70,000 |
| POSTECH(내부) | 63,000 |
| CSTC 참여연구실 | 49,000 |
| 장비기증 연구실 | 7,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100cycle 기준 (재료비 별도)
상품 요약설명
| 모델명 | Lucida D200 |
| 제조자 | NCD |
| 용도 | 산화물 박막 원자층 증착 |
| 기본 depo. 막질 | HfO, ZrO, Al2O3 및 삼성분계 적층 가능 |
| 이용수가(원) / 100cycle 기준 / 기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 60,000 |
| POSTECH(내부) | 54,000 |
| CSTC 참여연구실 | 42,000 |
| 장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
-CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100cycle 기준, 막질별 기본 recipe 제공
상품 요약설명
| 모델명 | Lucida D200 |
| 제조자 | NCD |
| 용도 | 산화물 박막 원자층 증착 |
| 기본 depo. 막질 | Al2O3 |
| 이용수가(원) /100cycle 기준 / 기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 60,000 |
| POSTECH(내부) | 54,000 |
| CSTC 참여연구실 | 42,000 |
| 장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100cycle 기준, 막질별 기본 recipe 제공
상품 요약설명
| 모델명 | MLD |
| 제조사 | 싸이엔텍 |
| 용도 | 고분자층 및 산화물 박박 증착 |
| Deposition 막질 | ZnO, Al2O3, AIDMP |
| 이용수가(원) / 100cycle 기준/기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 60,000 |
| POSTECH(내부) | 54,000 |
| CSTC 참여연구실 | 42,000 |
| 장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100cycle 기준,
상품 요약설명
| 모델명 | KVR-6000 |
| 제조사 | Korea Vacuum Tech |
| 용도 | 1000˚C 이하 급속 열처리 |
| 제공 Gas | N2, O2, Ar |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 60,000 |
| POSTECH(내부) | 54,000 |
| CSTC 참여연구실 | 42,000 |
| 장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준,
상품 요약설명
| 모델명 | BJD-1800 |
| 제조자 | SNTEC |
| 용도 | 금속 박막 증착 |
| 기본 depo. 막질 | Al, Mo, Ti, Ni, Au |
| 이용수가(원) /100nm 기준 / 기본PR | |
| 기본(외부) | 100,000 |
| POSTECH(내부) | 90,000 |
| CSTC 참여연구실 | 70,000 |
| 장비기증 연구실 | 10,000 |
- 이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
- 100nm기준, 막질별 기본 recipe 제공, 재료비 별도 (100nm 기준)
상품 요약설명
| 모델명 | Lucida D-200 |
| 제조사 | SNTEC |
| 용도 | 산화물 반도체 증착 |
| 기본 Target | a-IGZO, SiO2, SION |
| 이용수가(원) / 100nm 기준 | |
| 기본(외부) | 100,000 |
| POSTECH(내부) | 90,000 |
| CSTC 참여연구실 | 70,000 |
| 장비기증 연구실 | 10,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100nm 기준, 기본 recipe 제공, 재료비 별도
상품 요약설명
| 모델명 | KVS-2000L |
| 제조사 | Korea Vacuum Tech |
| 용도 | Metal / Metal Oxide |
| 기본 Target | 6-inch PVD target |
| 이용수가(원) / 100nm 기준 | |
| 기본(외부) | 100,000 |
| POSTECH(내부) | 90,000 |
| CSTC 참여연구실 | 70,000 |
| 장비기증 연구실 | 10,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100nm 기준, 기본 recipe 제공, 재료비 별도
상품 요약설명
| 모델명 | SE MG-1000 UV |
| 제조자 | NANO VIEW |
| 용도 | 빛의 굴절율을 이용한 박막 두께 측정 |
| 기본 depo. 막질 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 / 기본PR | |
| 기본(외부) | 35,000 |
| POSTECH(내부) | 31,500 |
| CSTC 참여연구실 | 24,500 |
| 장비기증 연구실 | 3,500 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준, 막질별 기본 recipe 제공, 재료비 별도 (100nm 기준)
상품 요약설명
| 모델명 | Wet Station |
| 제조사 | 두리텍 |
| 용도 | Acid, Organic 등 Wet 공정 |
| 제공 Target | overflow Di, SC1,, SC2, HF등 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 50,000 |
| POSTECH(내부) | 45,000 |
| CSTC 참여연구실 | 35,000 |
| 장비기증 연구실 | 5,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준,
상품 요약설명
| 모델명 | MDA-600S |
| 제조자 | MIDAS |
| 용도 | um사이즈의 패턴 형성용 lithography 장비 |
| 기본제공 PR | GXR 601 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 / 기본PR | |
| 기본(외부) | 50,000 |
| POSTECH(내부) | 45,000 |
| CSTC 참여연구실 | 35,000 |
| 장비기증 연구실 | 5,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
-CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준, 기본제공 PR 외의 PR은 본인 구비
상품 요약설명
| 모델명 | VSF-150MD |
| 제조자 | RHABDOS |
| 용도 | PR 용액 도포 및 코 |
| 기본제공 PR | GXR 601 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 / 기본PR | |
| 기본(외부) | 20,000 |
| POSTECH(내부) | 18,000 |
| CSTC 참여연구실 | 14,000 |
| 장비기증 연구실 | 2,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
-CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준, 기본제공 PR 외의 PR은 본인 구비
상품 요약설명
| 모델명 | AH1700 |
| 제조사 | |
| 용도 | UV lamp를 이용한 시편의 Ozone처리 |
| 제공 Plate |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 10,000 |
| POSTECH(내부) | 9,000 |
| CSTC 참여연구실 | 7,000 |
| 장비기증 연구실 | 1,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-1시간기준,
상품 요약설명
