High Pressure Anneal (HPA)
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | Lucida D-200 |
| 제조자 | NCD |
| 용도 | 고압 열처리 (Dielectric 결함 제거 및 특성 향상) |
| 제공 Gas | H2, D2 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 / 기본PR | |
| 기본(외부) | 30,000 |
| POSTECH(내부) | 27,000 |
| CSTC 참여연구실 | 21,000~25,500 |
| 장비기증 연구실 | 3,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-1시간기준,