Metal ALD (Atomic Layer Deposition)
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | Lucida D200 HT |
| 제조사 | NCD |
| 용도 | 강자성체 및 금속 원자층 증착 |
| Deposition 막질 | FeO, CoO, MgO, Ta, W |
| 이용수가(원) / 100cycle 기준/기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 70,000 |
| POSTECH(내부) | 63,000 |
| CSTC 참여연구실 | 49,000~59,500 |
| 장비기증 연구실 | 7,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-100cycle 기준 (재료비 별도)