모델명 | MLD |
제조사 | 싸이엔텍 |
용도 | 고분자층 및 산화물 박막 증착 |
Deposition 막질 | ZnO, Al2O3, AIDMP |
이용수가(원) / 100cycle 기준/기본 recipe 제공 | |
기본(외부) | 60,000 |
POSTECH(내부) | 54,000 |
CSTC 참여연구실 | 42,000~51,000 |
장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-100cycle 기준,
No. | Items | Description |
1 | Standard Process | ZnO, Al2O3, AIDMP |
2 | 보유 source | Al, Zn, DMP source |
3 | Wafer Size | 조각 ~ 6-inch |
4 | 공정온도 | 최대 200도 |
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No. | Items | Description |
1 | Standard Process | ZnO, Al2O3, AIDMP |
2 | 보유 source | Al, Zn, DMP source |
3 | Wafer Size | 조각 ~ 6-inch |
4 | 공정온도 | 최대 200도 |
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