RTA (Rapid Thermal Annealing)
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | KVR-6000 |
| 제조사 | Korea Vacuum Tech |
| 용도 | 1000˚C 이하 급속 열처리 |
| 제공 Gas | N2, O2, Ar |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 60,000 |
| POSTECH(내부) | 54,000 |
| CSTC 참여연구실 | 42,000~51,000 |
| 장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-1시간기준,
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | 1000˚C 이하 급속 열처리 |
| 2 | 제공 Gas | N2, O2, Ar (30~1000sccm 사용가능) |
| 3 | Wafer Size | 조각 ~ 8-inch |
| 4 | Heating elements | Quartz Lamp |
| 5 | Process Temperature | <500˚C: 1hr, <800˚C: ~30min, <1000˚C: ~1min |
| 6 | ||
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No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | 1000˚C 이하 급속 열처리 |
| 2 | 제공 Gas | N2, O2, Ar (30~1000sccm 사용가능) |
| 3 | Wafer Size | 조각 ~ 8-inch |
| 4 | Heating elements | Quartz Lamp |
| 5 | Process Temperature | <500˚C: 1hr, <800˚C: ~30min, <1000˚C: ~1min |
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