Furnace
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | Furnace Annealer |
| 제조사 | |
| 용도 | 400℃ 이하 열처리 -dielectric 특성 향상 |
| 제공 Gas | N2, O2 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 50,000 |
| POSTECH(내부) | 45,000 |
| CSTC 참여연구실 | 35,000~42,500 |
| 장비기증 연구실 | 5,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-1시간기준,
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | 400℃ 이하 열처리 |
| 2 | Wafer Size | up to 4-inch |
| 3 | 제공 gas | N2, O2 |
| 4 | ||
| 5 | ||
| 6 | ||
| 7 | ||
| 8 | ||
| 9 | ||
| 10 |
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | 400℃ 이하 열처리 |
| 2 | Wafer Size | up to 4-inch |
| 3 | 제공 gas | N2, O2 |
| 4 | ||
| 5 | ||
| 6 | ||
| 7 | ||
| 8 | ||
| 9 | ||
| 10 |