ALD-1 (Atomic Layer Deposition)
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
모델명Lucida D200
제조자NCD
용도산화물 박막 원자층 증착
기본 depo. 막질HfO, ZrO, Al2O3 및 삼성분계 적층 가능 


이용수가(원) / 100cycle 기준 / 기본 recipe 제공
기본(외부)60,000
POSTECH(내부)54,000
CSTC 참여연구실42,000~51,000
장비기증 연구실6,000

-이용료 부과기준: 회/매

- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인 

-100cycle 기준, 막질별 기본 recipe 제공

반도체기술융합센터, 포스텍

Center for Semiconductor Technology Convergence, POSTECH

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