Projects

๊ตญ์ฑ…์—ฐ๊ตฌ๊ณผ์ œ

Government funded R&D projects


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 Infrastructure Advancement: Advanced R&D integration service platform for highly functional nm-scale thinfilm nanomaterials


  • ์‚ฌ์—…๋ช…: ๊ต์œก๋ถ€, ๊ธฐ์ดˆ๊ณผํ•™์—ฐ๊ตฌ์—ญ๋Ÿ‰๊ฐ•ํ™”์‚ฌ์—…
  • ์—ฐ๊ตฌ๊ฐœ๋ฐœ๊ธฐ๊ฐ„: 2024.06.01 - 2029.02.28 
  • ์ด์‚ฌ์—…๋น„: 69์–ต 7์ฒœ7๋ฐฑ๋งŒ์›
  • ์‹œ์„ค(์„ผํ„ฐ๋ช…): ๋ฐ˜๋„์ฒด๊ธฐ์ˆ ์œตํ•ฉ์„ผํ„ฐ


์ดˆ๋ฐ•๋ง‰ ์†Œ์žฌ์—ฐ๊ตฌ ์ธํ”„๋ผ ๊ตฌ์ถ•์„ ๋ชฉํ‘œ๋กœ, ๋ณธ ์‚ฌ์—…์„ ํ†ตํ•ด ์ด 9๋Œ€์˜ ์‹ ๊ทœ์žฅ๋น„ ๊ตฌ์ถ•

โžก ์ดˆ๋ฐ•๋ง‰ํ˜• ๋‚˜๋…ธ์†Œ์žฌ ์ œ์ž‘ ๊ณต์ • flow์™€ CSTC ๊ธฐ๊ตฌ์ถ•์žฅ๋น„์™€ ๋น„๊ตํ•˜์—ฌ ๊ณต๋ฐฑ์žฅ๋น„๋ฅผ ์‹ ๊ทœ ๊ตฌ์ถ•


[์‹ ๊ทœํˆฌ์ž ์žฅ๋น„๋ฆฌ์ŠคํŠธ - ํ˜„์žฌ 2024.10.28]

๊ณต์ •์žฅ๋น„๋ช…ํ™œ์šฉ๋ชฉ์ ์›จ์ดํผ๊ตฌ๊ฒฝํ˜„ํ™ฉ
์†Œ์žฌTMDC CVD๊ณ ์„ฑ๋Šฅ TMDC ์†Œ์žฌ์„ฑ์žฅ4", 6", ์กฐ๊ฐ์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
์†Œ์žฌ๋Œ€๋ฉด์  ๊ทธ๋ž˜ํ•€ ์„ฑ์žฅ45cm roll-to-roll ๊ทธ๋ž˜ํ•€ ์„ฑ์žฅ4", 6", ์กฐ๊ฐ์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
์ „์‚ฌ๋Œ€๋ฉด์  TMDC ์ „์‚ฌ์žฅ๋น„๋Œ€๋ฉด์  2์ฐจ์›์†Œ์žฌ ์ „์‚ฌ4", 6", ์กฐ๊ฐ์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
์ „์‚ฌTMDC ๊ธฐํŒ ์ „์šฉ์„ธ์ •/ ์Šต์‹์‹๊ฐ์žฅ๋น„๋Œ€๊ตฌ๊ฒฝ TMDC ์›จ์ดํผ ์ „์‚ฌ ๋ฐ ์„ธ์ •, ๊ฐ•์‚ฐ์‹๊ฐ๊ณต์ •4", 6", ์กฐ๊ฐ์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
๋…ธ๊ด‘E-beam Lithography100nm ์ดํ•˜ ๋ฏธ์„ธํŒจํ„ด ์†Œ์ž ์ œ์ž‘4", 6", ์กฐ๊ฐ์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
์‹๊ฐICP-RIE (TMDC ์ „์šฉ์‹๊ฐ)Metal ๋ฐ TMDC ์‹๊ฐ
์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
์‹๊ฐAsherGraphene Etching์šฉ ์ „์šฉ์žฅ๋น„
์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
๋ฐ•๋ง‰PECVDSiO2, Nitride, ์ดˆ๋ฐ•๋ง‰์†Œ์ž ์ „์šฉ Passivation
์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…
๋ถ„์„์˜จ๋„๊ฐ€๋ณ€ํ˜• Hall ์ €ํ•ญ๋ถ„์„์žฅ๋น„์ด์ฐจ์›๋ฐ•๋ง‰์†Œ์žฌ๋ถ„์„4", 6", ์กฐ๊ฐ์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ…


*ํ˜„ํ™ฉ flow: ๋„์ž…์‹ฌ์˜์ง„ํ–‰ -> ๋„์ž…์‹ฌ์˜์™„๋ฃŒ -> ๊ตฌ๋งค์ง„ํ–‰ -> ์žฅ๋น„์ž…๊ณ  ๋ฐ ์„ธํŒ… -> ๊ณต์šฉํ™œ์šฉ



โœ… ์ฃผ์š” ํ™œ์šฉ ๊ณ„ํš


๊ธฐ์กด ๊ธฐ์ˆ , ์—ฐ๊ตฌ ํ•œ๊ณ„โžก์‹ ๊ทœ ์žฅ๋น„ ๊ตฌ์ถ•โžก์žฅ๋น„ ํ™œ์šฉ ์ฃผ์š” ์—ฐ๊ตฌ
์ดˆ๋ฐ•๋ง‰ ์‹ ์†Œ์žฌ ์ œ์ž‘, ํ™œ์šฉ ์—ฐ๊ตฌ์‹œ์„ค ๋ถˆ์ถฉ๋ถ„
-> ๊ธฐ์กด ๋‚˜๋…ธ์ธํ”„๋ผ ์‹œ์„ค์€ ํ™”ํ•ฉ๋ฌผ ๋ฐ˜๋„์ฒด ๋“ฑ ํƒ€ ์†Œ์žฌ ๊ด€๋ จ ๊ณต์ •/์—ฐ๊ตฌ๊ณผ์˜ ์ƒํ˜ธ์˜ค์—ผ๋ฌธ์ œ ๊ณต์กด
์ดˆ๋ฏธ์„ธ ์ง‘์ ํšŒ๋กœ ์ œ์ž‘์„ ์œ„ํ•œ ๋ฏธ์„ธ์†Œ์ž ์ œ์ž‘์ „์šฉ ์ „์ž๋น” ์žฅ๋น„, ์ดˆ๋ฐ•๋ง‰ ๊ณต์ •, ๊ทธ๋ž˜ํ•€, MoS2 6์ธ์น˜ ์›จ์ดํผ ์ œ์ž‘์žฅ๋น„ ๋“ฑ ์ถ”๊ฐ€ ๊ตฌ์ถ•๋Œ€๋ฉด์  ์ดˆ๋ฐ•๋ง‰ ์‹ ์†Œ์žฌ ๊ธฐ์ดˆ์›์ฒœ์—ฐ๊ตฌ/์‘์šฉ์—ฐ๊ตฌ ์ˆ˜ํ–‰ ๋Œ€๋ฉด์  ์‹ ์†Œ์žฌ๋ฅผ ํ™œ์šฉํ•œ ๋‹จ์œ„์†Œ์ž, ์ง‘์ ์†Œ์ž, ์‘์šฉํšŒ๋กœ ๋“ฑ ์ฐจ์„ธ๋Œ€ ๋ฐ˜๋„์ฒด, ๊ด‘์†Œ์ž, ๊ฐ์ข…์„ผ์„œ ๋“ฑ ์—ฐ๊ตฌ ๊ฐ€๋Šฅ



โœ… ๊ธฐ๋Œ€ํšจ๊ณผ

  • ๋Œ€๋ฉด์  ์ด์ฐจ์›์†Œ์žฌ ์›จ์ดํผ ์ œ์ž‘, ๋Œ€๋ฉด์  ๊ทธ๋ž˜ํ•€ ์›จ์ดํผ ์ œ์ž‘ ๋ฐ ํ™œ์šฉ, ๊ณ ์„ฑ๋Šฅ/ ๋Œ€๋ฉด์  ๊ทน๋ฐ•๋ง‰๋ฐ˜๋„์ฒด ๊ณต์ •๋“ฑ ๊ฐœ๋ณ„์—ฐ๊ตฌ์‹ค์—์„œ ์ˆ˜ํ–‰ํ•˜๊ธฐ ์–ด๋ ค์šด ์ง‘์ ๋„ ๋†’์€ ์—ฐ๊ตฌ ์ˆ˜ํ–‰ ์ง€์› ๊ฐ€๋Šฅ
  • ๊ธฐ๊ตฌ์ถ• ์žฅ๋น„๋“ค๊ณผ ์—ฐ๊ณ„ํ•˜์—ฌ ์ด์ฐจ์›, ์ดˆ๋ฐ•๋ง‰ ์†Œ์žฌ์—ฐ๊ตฌ์— ํŠนํ™”๋œ ํŠน์ˆ˜์žฅ๋น„ ๋“ฑ์„ ๊ณต์œ ํ•  ์ˆ˜ ์žˆ๋Š” ํ™˜๊ฒฝ์„ ์ œ๊ณตํ•˜์—ฌ ์‘์šฉ๋‹จ๊ณ„ ์—ฐ๊ตฌ๊นŒ์ง€ ์ด์–ด์ง€๋Š” ์‹ค์šฉ์  ์—ฐ๊ตฌ์ˆ˜ํ–‰ ๋ฐ ๊ฐœ๋ฐœ๊ธฐ๊ฐ„ ๋Œ€ํญ ๋‹จ์ถ• ๊ฐ€๋Šฅ

์ธ๋ ฅ์–‘์„ฑ๊ณผ์ œ

Educational projects

"๋ฐ˜๋„์ฒด์ธํ”„๋ผํ™œ์šฉํ˜„์žฅ์ธ๋ ฅ์–‘์„ฑ"

 On-site engineer training using semiconductor infrastructure based on industrial demand


  • ์‚ฌ์—…๋ช…: ์‚ฐ์—…๋ถ€, ๋ฐ˜๋„์ฒด์ธํ”„๋ผํ™œ์šฉํ˜„์žฅ์ธ๋ ฅ์–‘์„ฑ
  • ์—ฐ๊ตฌ๊ฐœ๋ฐœ๊ธฐ๊ฐ„: 2022.07.01 - 2027.06.30
  • ์ฐธ์—ฌํ˜•ํƒœ: ๊ณต๋™
  • ์‚ฌ์—…๋น„: [1์—ฐ์ฐจ]-2.8์–ต,  [2์—ฐ์ฐจ]-3.6์–ต,  [3์—ฐ์ฐจ]-4.7์–ต

์ธ๋ ฅ์–‘์„ฑ๊ณผ์ œ

Educational projects

"๊ฒฝ๋ถ ๋ฐ˜๋„์ฒด ์ดˆ๊ฒฉ์ฐจ ์ธ์žฌ์–‘์„ฑ์„ ์œ„ํ•œ ๊ธฐ์—…ํŠนํ™”ํ˜• ์ „๋ฌธ์ธ๋ ฅ ๋ฐ R&D์ธ๋ ฅ์ง€์›"

 


  • ์‚ฌ์—…๋ช…: ๊ฒฝ๋ถ๋„, ๊ฒฝ๋ถ ๋ฐ˜๋„์ฒด ์ดˆ๊ฒฉ์ฐจ ์ „๋ฌธ์ธ๋ ฅ ์–‘์„ฑ์‚ฌ์—…
  • ์—ฐ๊ตฌ๊ฐœ๋ฐœ๊ธฐ๊ฐ„: 2024.04.01 - 2024.12.31

๋ฐ˜๋„์ฒด๊ธฐ์ˆ ์œตํ•ฉ์„ผํ„ฐ, ํฌ์Šคํ…

Center for Semiconductor Technology Convergence, POSTECH




Tel. 054-279-5024 | Fax. 054-279-5029 | cstcdesk@postech.ac.kr
37673 ๊ฒฝ์ƒ๋ถ๋„ ํฌํ•ญ์‹œ ๋‚จ๊ตฌ ์ง€๊ณก๋กœ 127๋ฒˆ๊ธธ 80, ์ฒจ๋‹จ๊ธฐ์ˆ ์‚ฌ์—…ํ™”์„ผํ„ฐ 4์ธต

Fab2 #410, 80 Jigok-ro 127beon-gil, Nam-gu, Pohang, Gyeongsangbukdo, Republic of Korea