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"고기능성 나노스케일 초박막형 나노소재기반 신기술 집적 연구지원 플랫폼"

Infrastructure Advancement: Advanced R&D integration service platform for highly functional nm-scale thinfilm nanomaterials

초박막 소재연구 인프라 구축을 목표로, 본 사업을 통해 총 9대의 신규장비 구축

➡ 초박막형 나노소재 제작 공정 flow와 CSTC 기구축장비와 비교하여 공백장비를 신규 구축

[신규투자 장비리스트 - 현재 2024.10.28]

공정	장비명	활용목적	웨이퍼구경	현황
소재	TMDC CVD	고성능 TMDC 소재성장	4", 6", 조각	장비입고 및 세팅
소재	대면적 그래핀 성장	45cm roll-to-roll 그래핀 성장	4", 6", 조각	장비입고 및 세팅
전사	대면적 TMDC 전사장비	대면적 2차원소재 전사	4", 6", 조각	장비입고 및 세팅
전사	TMDC 기판 전용세정/ 습식식각장비	대구경 TMDC 웨이퍼 전사 및 세정, 강산식각공정	4", 6", 조각	장비입고 및 세팅
노광	E-beam Lithography	100nm 이하 미세패턴 소자 제작	4", 6", 조각	장비입고 및 세팅
식각	ICP-RIE (TMDC 전용식각)	Metal 및 TMDC 식각		장비입고 및 세팅
식각	Asher	Graphene Etching용 전용장비		장비입고 및 세팅
박막	PECVD	SiO2, Nitride, 초박막소자 전용 Passivation		장비입고 및 세팅
분석	온도가변형 Hall 저항분석장비	이차원박막소재분석	4", 6", 조각	장비입고 및 세팅

*현황 flow: 도입심의진행 -> 도입심의완료 -> 구매진행 -> 장비입고 및 세팅 -> 공용활용

✅ 주요 활용 계획

기존 기술, 연구 한계	➡	신규 장비 구축	➡	장비 활용 주요 연구
초박막 신소재 제작, 활용 연구시설 불충분 -> 기존 나노인프라 시설은 화합물 반도체 등 타 소재 관련 공정/연구과의 상호오염문제 공존	➡	초미세 집적회로 제작을 위한 미세소자 제작전용 전자빔 장비, 초박막 공정, 그래핀, MoS2 6인치 웨이퍼 제작장비 등 추가 구축	➡	대면적 초박막 신소재 기초원천연구/응용연구 수행 대면적 신소재를 활용한 단위소자, 집적소자, 응용회로 등 차세대 반도체, 광소자, 각종센서 등 연구 가능

✅ 기대효과

대면적 이차원소재 웨이퍼 제작, 대면적 그래핀 웨이퍼 제작 및 활용, 고성능/ 대면적 극박막반도체 공정등 개별연구실에서 수행하기 어려운 집적도 높은 연구 수행 지원 가능
기구축 장비들과 연계하여 이차원, 초박막 소재연구에 특화된 특수장비 등을 공유할 수 있는 환경을 제공하여 응용단계 연구까지 이어지는 실용적 연구수행 및 개발기간 대폭 단축 가능