인프라고도화 연구성과 표기 기준 안내
인프라고도화사업으로 신규도입한 장비를 활용하여 연구성과가 발생한 경우, 아래와 같이 논문 성과 표기방법을 안내드립니다.
논문게재료의 일부를 지원하고 있으니, 관련 안내가 필요한 연구실에서는 아래 담당자에게 연락주시기 바랍니다.
📌 담당자: 박미혜 cstcdesk@postech.ac.kr, 054-279-5024
논문 사사의 경우
[과제번호] RS-2024-00434439
[과제명] 인프라고도화: 고기능성 나노스케일 초박막형 나노소재기반 신기술 집적 연구지원 플랫폼
| 국문 (예시) | 영문 (예시) |
|---|---|
| 본 연구는 2024년도 교육부의 재원으로 한국기초과학지원연구원 국가연구시설장비진흥센터의 지원을 받아 수행된 연구임(RS-2024-00434439) | This research was supported by Korea Basic Science Institute(National research Facilities and Equipment Center) grant funded by the Ministry of Education (RS-2024-00434439) |
장비 활용의 경우
[논문 본문 기입] 실험방법에 해당 시설명, 사용한 장비명 및 시설장비등록번호(NFEC-0000-00-000000)를 모두 기입
| 국문 | 영문 (예시) |
|---|---|
| [영문장비명], POSTECH Center for Semiconductor Technology Convergence supported by Korea Basic Science Institute, [NFEC 등록번호] |
[NFEC 시설장비등록번호] 장비명 및 시설등록번호
국문 장비명 | 장비명 약어 | 영문 장비명 | NFEC 시설장비등록번호 | |
|---|---|---|---|---|
1 | 고성능 전자빔 리소그래피 시스템 | EBL | High performance electron beam lithography | NFEC-2025-03-304835 |
2 | 온도 가변형 Hall효과 측정 장비 | HEMS | Hall effect measurement system | NFEC-2025-01-302395 |
3 | TMDC 기판 전용 세정/ 습식식각 장비 | Wet Station | TMDC Wet station | NFEC-2025-02-304149 |
4 | Graphene O2 Plasma Etching 공정장비 | Asher | Graphene O2 plasma etching system | NFEC-2025-03-304442 |
5 | 저온 플라즈마 기반 보조층 박막 증착장비 | PE-CVD | Plasma enhanced chemical vapor deposition | NFEC-2025-05-306172 |
6 | 전이금속 디칼코겐화물 전용 식각 장비 | ICP-RIE | Etching system for TMDC | NFEC-2025-05-306208 |
7 | 2차원 전이금속 칼코겐화합물 성장을 위한 8인치용 유기화학기상증착기 | TMDC CVD | 8 inch MOCVD system for 2D TMDC growth | NFEC-2025-05-306214 |
8 | 대면적 그래핀 성장 장비 | - | Large graphene growth system | NFEC-2025-05-306215 |
9 | 대면적 TMDC 전사 장비 | - | Large scale TMDC transfer system | NFEC-2025-05-306219 |
