Sputter - II
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | KVS-2000L |
| 제조사 | Korea Vacuum Tech |
| 용도 | Metal / Metal Oxide |
| 기본 Target | W, Te, Ti, Mo Target |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| 기본(외부) | 100,000 |
| POSTECH(내부) | 90,000 |
| CSTC 참여연구실 | 70,000~85,000 |
| 장비기증 연구실 | 10,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-100nm 기준, 기본 recipe 제공, 재료비 별도
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | Metal / Metal Oxide |
| 2 | Sputter Target | Te, W, Ti, Mo |
| 3 | Wafer Size | 조각 ~ 6-inch |
| 4 | 사용 Gas | Ar (Max. 100sccm), O2 (Max. 50sccm), N2 (Max. 50sccm) |
| 5 | Max process time | 60min |
| 6 | ||
| 7 | ||
| 8 | ||
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| 10 |
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | Metal / Metal Oxide |
| 2 | Sputter Target | Te, W, Ti, Mo |
| 3 | Wafer Size | 조각 ~ 6-inch |
| 4 | 사용 Gas | Ar (Max. 100sccm), O2 (Max. 50sccm), N2 (Max. 50sccm) |
| 5 | Max process time | 60min |
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