| 모델명 | MLD |
| 제조사 | 싸이엔텍 |
| 용도 | 고분자층 및 산화물 박박 증착 |
| Deposition 막질 | Te |
| 이용수가(원) / 100cycle 기준/기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 60,000 |
| POSTECH(내부) | 54,000 |
| CSTC 참여연구실 | 42,000~51,000 |
| 장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-100cycle 기준,
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | TeO |
| 2 | 보유 source | Te |
| 3 | Wafer Size | 조각 ~ 6-inch |
| 4 | 공정온도 | 최대 200도 |
| 5 | ||
| 6 | ||
| 7 | ||
| 8 | ||
| 9 | ||
| 10 |
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | TeO |
| 2 | 보유 source | Te |
| 3 | Wafer Size | 조각 ~ 6-inch |
| 4 | 공정온도 | 최대 200도 |
| 5 | ||
| 6 | ||
| 7 | ||
| 8 | ||
| 9 | ||
| 10 |
반도체기술융합센터, 포스텍
Center for Semiconductor Technology Convergence, POSTECH
Tel. 054-279-5024 | Fax. 054-279-5029 | cstcdesk@postech.ac.kr
37673 경상북도 포항시 남구 지곡로 127번길 80, 첨단기술사업화센터 4층
Fab2 #410, 80 Jigok-ro 127beon-gil, Nam-gu, Pohang, Gyeongsangbukdo, Republic of Korea