Asher
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | EURA-200 |
| 제조사 | 울텍 |
| 용도 | Graphene Etching용 전용장비 |
| 이용수가(원) / 1시간 기준 | |
| ZEUS 클라우드 실시간 예약으로만 장비예약 가능 | |
| 기본(외부) | 80,000 |
| POSTECH(내부) 직접 | 65,000 |
| 인프라고도화 참여연구실 | 35,000 |
| 의뢰서비스 | 70,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- 본 장비는 인프라고도화사업으로 구축한 장비입니다. 인프라고도화사업의 장비활용실적 증빙을 위해, ZEUS 클라우드 실시간예약으로만 장비예약이 가능합니다.
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | PR Etching |
| 2 | Wafer Size | 조각 ~ 8 inch |
| 3 | 사용 가스 | Ar, O2 |
| 4 | RF Power | MAX 54oW |
| 5 | Chamber material | Electro-polished SUS |
| 6 | Etch recipe 1 | 200w O2 20sccm 480A/min |
| 7 | Etch recipe 2 | 500w O2 18sccm 1680A/min |
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | PR Etching |
| 2 | Wafer Size | 조각 ~ 8 inch |
| 3 | 사용 가스 | Ar, O2 |
| 4 | RF Power | MAX 54oW |
| 5 | Chamber material | Electro-polished SUS |
| 6 | Etch recipe 1 | 200w O2 20sccm 480A/min |
| 7 | Etch recipe 2 | 500w O2 18sccm 1680A/min |
