PE-ALD-1 (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition)
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | PLAMINAR |
| 제조사 | NexusBe |
| 용도 | 산화물 박막 원자층 증착 |
| 기본 depo. 막질 | In2O3, Ga2O3, ZnO |
| 이용수가(원) / 100cycle 기준 / 기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 80,000 |
| POSTECH(내부) | 50,000 |
| CSTC 참여연구실 | 35,000 |
| 장비기증 연구실 | 5,000 |
| Precursor | 100cycle당 가격 |
| DADI | 8,000 |
| TMGa | 132,000 |
| DEZ | 67,000 |
| TMA | 3,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인
-100cycle 기준, 막질별 기본 recipe 제공
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | In2O3, Ga2O3, ZnO |
| 2 | Precusor | DADI, TMG, DEZ |
| 3 | Process Tempmerature | 150~250˚C |
| 4 | Wafer Size | up to 8-inch |
| 5 | Vacuum Gauge | Process Gauge: Batatron Gauge Vacuum Check: ATM sensor |
| 6 | 막질 Uniform | - |
No. | Items | Description |
| 1 | Standard Process | In2O3, Ga2O3, ZnO |
| 2 | Precusor | DADI, TMG, DEZ |
| 3 | Process Tempmerature | 150~250˚C |
| 4 | Wafer Size | up to 8-inch |
| 5 | Vacuum Gauge | Process Gauge: Batatron Gauge Vacuum Check: ATM sensor |
| 6 | 막질 Uniform | - |
