High Pressure Anneal (HPA)
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모델명Lucida D-200
제조자NCD 
용도고압 수소 열처리 (Dielectric 결함 제거 및 특성 향상)
제공  GasH2


이용수가(원) / 1시간 기준 / 기본PR
기본(외부)60,000
POSTECH(내부)54,000
CSTC 참여연구실42,000~51,000
장비기증 연구실6,000

-이용료 부과기준: 회/매

- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인 

-1시간기준,

반도체기술융합센터, 포스텍

Center for Semiconductor Technology Convergence, POSTECH

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