Metal ALD (Atomic Layer Deposition)
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
모델명Lucida D200 HT
제조사NCD
용도강자성체 및 금속 원자층 증착
Deposition 막질Al2O3, Mo


이용수가(원) / 100cycle 기준/기본 recipe 제공
기본(외부)70,000
POSTECH(내부)63,000
CSTC 참여연구실49,000~59,500
장비기증 연구실7,000

-이용료 부과기준: 회/매

- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인 

-100cycle 기준 (재료비 별도)

반도체기술융합센터, 포스텍

Center for Semiconductor Technology Convergence, POSTECH

Tel. 054-279-5024 | Fax. 054-279-5029 | cstcdesk@postech.ac.kr
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