ICP-RIE
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
모델명KVET-I200L
제조자Korea Vacuum Tech
용도플라즈마 방식의 건식식각 장비 
사용가스O2, Ar, CF4


이용수가(원) / 1시간 기준 / 기본 Gas
기본(외부)60,000
POSTECH(내부)54,000
CSTC 참여연구실42,000~51,000
장비기증 연구실6,000

-이용료 부과기준: 회/매

- POSTECH 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 15%~30% 할인 

-1시간기준

반도체기술융합센터, 포스텍

Center for Semiconductor Technology Convergence, POSTECH

Tel. 054-279-5024 | Fax. 054-279-5029 | cstcdesk@postech.ac.kr
37673 경상북도 포항시 남구 지곡로 127번길 80, 첨단기술사업화센터 4층

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