ALD-2 (Atomic Layer Deposition)
그룹별 이용수가 확인(상세정보)
| 모델명 | Lucida D200 |
| 제조자 | NCD |
| 용도 | 산화물 박막 원자층 증착 |
| 기본 depo. 막질 | Al2O3 |
| 이용수가(원) /100cycle 기준 / 기본 recipe 제공 | |
| 기본(외부) | 60,000 |
| POSTECH(내부) | 54,000 |
| CSTC 참여연구실 | 42,000 |
| 장비기증 연구실 | 6,000 |
-이용료 부과기준: 회/매
- Postech 내부 10% 할인, CSTC 참여연구실 30% 할인, 장비기증연구실 90% 할인 적용
-100cycle 기준, 막질별 기본 recipe 제공